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桌面实验涂布机
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平板挤压狭缝钙钛矿涂布机胶水电池基片OLED光电膜导电膜涂覆

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  • 详细介绍

产品概述


适用于片状基材表面涂覆的设备,选用狭缝模头涂覆工艺,主要应用于实验室研发,可在手套箱内工作。本设备主要用于各类型胶水、锂电池基片、OLED、太阳能光电膜和聚合物导电膜等领域的片式基材的表面涂覆。采用挤压式涂覆工艺,涂覆精度高、一致性好,涂布窗口较宽;片式挤压涂覆,涂覆精度高,一致性好; 适合低粘度涂料,薄涂工艺;涂料及基材需求量小,使用方便,适合工艺验证:涂覆基板带真空吸附功能;涂敷基板带加热功能,温度可控;可选配多种涂布工艺;可选配风刀模块进行钙钛矿涂布;可选配特殊涂覆板进行隔膜涂覆; 可在手套箱内使用。

技术参数

涂布方式 挤压狭缝
基材宽度 ≤800 (mm)
速度控制范围 0-500(m/min)
涂布湿膜厚度 0.01-10(mm)
膜厚均匀度 0.002mm
供料系统 高精度供液泵/齿轮泵/螺杆泵+耐腐蚀管路+鲁尔接头
控制方式 交流伺服+减速机+丝杆+光栅反馈+PLC全自动/触控屏控制加到表格里 大尺寸触控屏控制,系统参数可视化
设备尺寸 740 x444x425mm(可定制)
固含量 0-100%
基材固定方式 真空吸附
涂布平台材质 大理石底座
粘度 1-8000 (cps)
加热温度 ≤150℃

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